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Eksma 適用于飛秒應(yīng)用的高功率激光反射鏡

簡(jiǎn)要描述：Eksma 適用于飛秒應(yīng)用的高功率激光反射鏡
新型高損傷閾值激光鏡專為飛秒激光器設(shè)計(jì)。這些鏡子使用的IBS鍍膜技術(shù)生產(chǎn)。反射鏡的設(shè)計(jì)波長(zhǎng)包括515 nm，800 nm，1030 nm和寬帶720-880 nm范圍，反射值R> 99.8％。

產(chǎn)品品牌：Eksma
廠商性質(zhì)：代理商
更新時(shí)間：2021-03-22
訪問(wèn) 量：1030

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詳細(xì)介紹

品牌	Eksma	價(jià)格區(qū)間	面議
組件類別	光學(xué)元件	應(yīng)用領(lǐng)域	醫(yī)療衛(wèi)生,環(huán)保,化工,電子,綜合

Eksma 適用于飛秒應(yīng)用的高功率激光鏡

Eksma 適用于飛秒應(yīng)用的高功率激光反射鏡

高損傷閾值激光鏡，專為飛秒激光器設(shè)計(jì)。使用的IBS鍍膜技術(shù)生產(chǎn)。

產(chǎn)品介紹

新型高損傷閾值激光鏡專為飛秒激光器設(shè)計(jì)。這些鏡子使用的IBS鍍膜技術(shù)生產(chǎn)。反射鏡的設(shè)計(jì)波長(zhǎng)包括515 nm，800 nm，1030 nm和寬帶720-880 nm范圍，反射值R> 99.8％。

在ISO標(biāo)準(zhǔn)21254-2 1000-on-1條件下，以50 fs脈沖，100 Hz在反射鏡設(shè)計(jì)波長(zhǎng)下測(cè)量激光誘導(dǎo)的損傷閾值。

產(chǎn)品型號(hào)

設(shè)計(jì)波長(zhǎng) - 343 nm, LIDT @ 343 nm, 200 fs, 100 Hz

型號(hào)	波長(zhǎng)	材料	尺寸	AOI	R, % (S+P)/2	激光損傷閾值
041-0343PHR	343 nm	UV FS	ø12.7 x 6 mm	45°	99.8%	>0.4 J/cm²
041-0343PHR-i0	343 nm	UV FS	ø12.7 x 6 mm	0°	99.8%	>0.4 J/cm²
042-0343PHR	343 nm	UV FS	ø25.4 x 6 mm	45°	99.8%	>0.4 J/cm²
042-0343PHR-i0	343 nm	UV FS	ø25.4 x 6 mm	0°	99.8%	>0.4 J/cm²
045-0343PHR	343 nm	UV FS	ø50.8 x 12 mm	45°	99.8%	>0.4 J/cm²
045-0343PHR-i0	343 nm	UV FS	ø50.8 x 12 mm	0°	99.8%	>0.4 J/cm²

設(shè)計(jì)波長(zhǎng) - 500-530 nm, LIDT @ 515 nm, 50 fs, 100 Hz

型號(hào)	波長(zhǎng)	材料	尺寸	AOI	R, % (S+P)/2	激光損傷閾值
041-0515T6HHR	500-530 nm	UV FS	ø12.7 x 6 mm	45°	99.9%	>0.15 J/cm²
041-0515T6HHR-i0	500-530 nm	UV FS	ø12.7 x 6 mm	0°	99.9%	>0.15 J/cm²
042-0515HHR	500-530 nm	UV FS	ø25.4 x 6 mm	45°	99.9%	>0.15 J/cm²
042-0515HHR-i0	500-530 nm	UV FS	ø25.4 x 6 mm	0°	99.9%	>0.15 J/cm²
045-0515T12HHR	500-530 nm	UV FS	ø50.8 x 12 mm	45°	99.9%	>0.15 J/cm²
045-0515T12HHR-i0	500-530 nm	UV FS	ø50.8 x 12 mm	0°	99.9%	>0.15 J/cm²

設(shè)計(jì)波長(zhǎng) - 760-840 nm, LIDT @ 800 nm, 50 fs, 100 Hz

型號(hào)	波長(zhǎng)	材料	尺寸	AOI	R, % (S+P)/2	激光損傷閾值
041-0800T6HHR	760-840 nm	UV FS	ø12.7 x 6 mm	45°	99.9%	>0.15 J/cm²
041-0800T6UHHR	760-840 nm	UV FS	ø12.7 x 6 mm	45°	99.9%	>0.4 J/cm²
041-0800T6HHR-i0	760-840 nm	UV FS	ø12.7 x 6 mm	0°	99.9%	>0.15 J/cm²
041-0800T6UHHR-i0	760-840 nm	UV FS	ø12.7 x 6 mm	0°	99.9%	>0.4 J/cm²
041-0800T6HHR-i0-45	760-840 nm	UV FS	ø12.7 x 6 mm	0-45°	99.9%	>0.15 J/cm²
042-0800HHR	760-840 nm	UV FS	ø25.4 x 6 mm	45°	99.9%	>0.15 J/cm²
042-0800UHHR	760-840 nm	UV FS	ø25.4 x 6 mm	45°	99.9%	>0.4 J/cm²
042-0800HHR-i0	760-840 nm	UV FS	ø25.4 x 6 mm	0°	99.9%	>0.15 J/cm²
042-0800UHHR-i0	760-840 nm	UV FS	ø25.4 x 6 mm	0°	99.9%	>0.4 J/cm²
042-0800HHR-i0-45	760-840 nm	UV FS	ø25.4 x 6 mm	0-45°	99.9%	>0.15 J/cm²
045-0800T12HHR	760-840 nm	UV FS	ø50.8 x 12 mm	45°	99.9%	>0.15 J/cm²
045-0800T12UHHR	760-840 nm	UV FS	ø50.8 x 12 mm	45°	99.9%	>0.4 J/cm²
045-0800T12HHR-i0	760-840 nm	UV FS	ø50.8 x 12 mm	0°	99.9%	>0.15 J/cm²
045-0800T12UHHR-i0	760-840 nm	UV FS	ø50.8 x 12 mm	0°	99.9%	>0.4 J/cm²
045-0800T12HHR-i0-45	760-840 nm	UV FS	ø50.8 x 12 mm	0-45°	99.9%	>0.15 J/cm²

設(shè)計(jì)波長(zhǎng) - 720-880 nm, LIDT @ 800 nm, 50 fs, 100 Hz

型號(hào)	波長(zhǎng)	材料	尺寸	AOI	R, % (S+P)/2	激光損傷閾值
081-7288HHR	720-880 nm	UV FS	ø12.7 x 6 mm	45°	99.8%	>0.25 J/cm²
081-7288HHR-i0	720-880 nm	UV FS	ø12.7 x 6 mm	0°	99.9%	>0.25 J/cm²
082-7288HHR	720-880 nm	UV FS	ø25.4 x 6 mm	45°	99.8%	>0.25 J/cm²
082-7288HHR-i0	720-880 nm	UV FS	ø25.4 x 6 mm	0°	99.9%	>0.25 J/cm²
085-7288T12HHR	720-880 nm	UV FS	ø50.8 x 12 mm	45°	99.8%	>0.25 J/cm²
085-7288T12HHR-i0	720-880 nm	UV FS	ø50.8 x 12 mm	0°	99.9%	>0.25 J/cm²
087-7288HHR	720-880 nm	UV FS	ø76.2 x 15 mm	45°	99.8%	>0.25 J/cm²
087-7288HHR-i0	720-880 nm	UV FS	ø76.2 x 15 mm	0°	99.9%	>0.25 J/cm²

設(shè)計(jì)波長(zhǎng) - 1000-1060 nm, LIDT @ 1030 nm, 50 fs, 100 Hz

型號(hào)	波長(zhǎng)	材料	尺寸	AOI	R, % (S+P)/2	激光損傷閾值
041-1030T6HHR	1000-1060 nm	UV FS	ø12.7 x 6 mm	45°	99.9%	>0.3 J/cm²
041-1030T6HHR-i0	1000-1060 nm	UV FS	ø12.7 x 6 mm	0°	99.9%	>0.3 J/cm²
042-1030HHR	1000-1060 nm	UV FS	ø25.4 x 6 mm	45°	99.9%	>0.3 J/cm²
042-1030HHR-i0	1000-1060 nm	UV FS	ø25.4 x 6 mm	0°	99.9%	>0.3 J/cm²
045-1030T12HHR	1000-1060 nm	UV FS	ø50.8 x 12 mm	45°	99.9%	>0.3 J/cm²
045-1030T12HHR-i0	1000-1060 nm	UV FS	ø50.8 x 12 mm	0°	99.9%	>0.3 J/cm²

基材

材料	UV級(jí)熔融石英
S1表面平整度	λ/10 at 633 nm
S1表面質(zhì)量	20-10表面光潔度 (MIL-PRF-13830B)
S2表面質(zhì)量	簡(jiǎn)單拋光
直徑公差	+0.00 mm / -0.12 mm
厚度公差	±0.25 mm
楔	< 3 min
倒角	0.3 mm at 45° typical

鍍膜

技術(shù)	離子束濺射（IBS）
附著力和耐久性	根據(jù)MIL-C-675A，不溶于實(shí)驗(yàn)室溶劑
通光孔徑	超過(guò)直徑的85％
鍍膜表面平整度	透明孔徑下633 nm處的λ/ 10
激光引起的損傷閾值	在設(shè)計(jì)波長(zhǎng)，50 fs脈沖，100 Hz下測(cè)量

EKSMA OPTICS是激光，激光系統(tǒng)和光學(xué)儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應(yīng)商。我們的激光組件可在科學(xué)，工業(yè)，醫(yī)學(xué)，美學(xué)，軍事和航空航天市場(chǎng)的不同激光和光子學(xué)應(yīng)用中使用。波長(zhǎng)范圍從紫外（193 nm）到可見光（VIS）到紅外（20μm）以及太赫茲（THz）范圍的激光光學(xué)組件的應(yīng)用范圍。
EKSMA Optics是高功率激光應(yīng)用，激光介質(zhì)和非線性頻率轉(zhuǎn)換晶體，光機(jī)械，帶驅(qū)動(dòng)器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統(tǒng)的制造商和供應(yīng)商，它們用于激光器和其他應(yīng)用光學(xué)儀器。
EKSMA Optics從1983年開始在激光領(lǐng)域開始其一項(xiàng)業(yè)務(wù)，其基礎(chǔ)是在激光和光學(xué)領(lǐng)域的長(zhǎng)期專業(yè)知識(shí)。
公司提供的所有組件均經(jīng)過(guò)質(zhì)量控制實(shí)驗(yàn)室的高質(zhì)量測(cè)試和認(rèn)證。通過(guò)嚴(yán)格的檢查程序，質(zhì)量控制評(píng)估以及對(duì)新技術(shù)的承諾，我們不斷改進(jìn)并提供優(yōu)良的質(zhì)量。 EKSMA OPTICS已通過(guò)ISO 9001：2015認(rèn)證。必維檢驗(yàn)集團(tuán)（Bureau Veritas）頒發(fā)的認(rèn)證。
EKSMA OPTICS大力投資于的制造設(shè)備和擴(kuò)展制造能力。
公司擁有：?用于平板玻璃和熔融石英光學(xué)元件的切割，研磨和拋光設(shè)備。 nonlinear可根據(jù)要求提供非線性和電光晶體LBO，BBO，KDP，DKDP，KTP，AgGaSe2，ZnGeP2和其他晶體的拋光設(shè)備。 of球面鏡和非球面鏡（包括軸錐）的研磨和拋光設(shè)備。在我們的鏡頭生產(chǎn)工廠中，鏡頭由N-BK7，S-LAH64和UVFS制成。 ?IBS鍍膜設(shè)施可用于激光光學(xué)和晶體的，超精密薄膜鍍膜。 of電光調(diào)制器的組裝設(shè)備–基于BBO，DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。EKSMA OPTICS是激光，激光系統(tǒng)和光學(xué)儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應(yīng)商。我們的激光組件可在科學(xué)，工業(yè)，醫(yī)學(xué)，美學(xué)，軍事和航空航天市場(chǎng)的不同激光和光子學(xué)應(yīng)用中使用。波長(zhǎng)范圍從紫外（193 nm）到可見光（VIS）到紅外（20μm）以及太赫茲（THz）范圍的激光光學(xué)組件的應(yīng)用范圍。
EKSMA Optics是高功率激光應(yīng)用，激光介質(zhì)和非線性頻率轉(zhuǎn)換晶體，光機(jī)械，帶驅(qū)動(dòng)器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統(tǒng)的制造商和供應(yīng)商，它們用于激光器和其他應(yīng)用光學(xué)儀器。
EKSMA Optics從1983年開始在激光領(lǐng)域開始其一項(xiàng)業(yè)務(wù)，其基礎(chǔ)是在激光和光學(xué)領(lǐng)域的長(zhǎng)期專業(yè)知識(shí)。
公司提供的所有組件均經(jīng)過(guò)質(zhì)量控制實(shí)驗(yàn)室的高質(zhì)量測(cè)試和認(rèn)證。通過(guò)嚴(yán)格的檢查程序，質(zhì)量控制評(píng)估以及對(duì)新技術(shù)的承諾，我們不斷改進(jìn)并提供優(yōu)良的質(zhì)量。 EKSMA OPTICS已通過(guò)ISO 9001：2015認(rèn)證。必維檢驗(yàn)集團(tuán)（Bureau Veritas）頒發(fā)的認(rèn)證。
EKSMA OPTICS大力投資于的制造設(shè)備和擴(kuò)展制造能力。
公司擁有：?用于平板玻璃和熔融石英光學(xué)元件的切割，研磨和拋光設(shè)備。 nonlinear可根據(jù)要求提供非線性和電光晶體LBO，BBO，KDP，DKDP，KTP，AgGaSe2，ZnGeP2和其他晶體的拋光設(shè)備。 of球面鏡和非球面鏡（包括軸錐）的研磨和拋光設(shè)備。在我們的鏡頭生產(chǎn)工廠中，鏡頭由N-BK7，S-LAH64和UVFS制成。 ?IBS鍍膜設(shè)施可用于激光光學(xué)和晶體的，超精密薄膜鍍膜。 of電光調(diào)制器的組裝設(shè)備–基于BBO，DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。

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