簡(jiǎn)要描述:CVD鑽石光學(xué)元件多晶CVD金剛石由于其出色的性能,長(zhǎng)期以來(lái)一直被認(rèn)為是各種應(yīng)用的終/極材料。它優(yōu)良的硬度是精密工具和加工工藝的優(yōu)勢(shì)。金剛石的高導(dǎo)熱性使它在熱管理應(yīng)用中非常有用。其廣泛的光學(xué)傳輸范圍使金剛石窗口能夠進(jìn)入半導(dǎo)體制造的尖/端光刻系統(tǒng)。
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組件類(lèi)別 | 其他 | 應(yīng)用領(lǐng)域 | 醫(yī)療衛(wèi)生,環(huán)保,化工,電子,綜合 |
CVD鑽石光學(xué)元件
CVD鑽石光學(xué)元件
多晶CVD金剛石由于其出色的性能,長(zhǎng)期以來(lái)一直被認(rèn)為是各種應(yīng)用的終/極材料。它優(yōu)良的硬度是精密工具和加工工藝的優(yōu)勢(shì)。金剛石的高導(dǎo)熱性使它在熱管理應(yīng)用中非常有用。其廣泛的光學(xué)傳輸范圍使金剛石窗口能夠進(jìn)入半導(dǎo)體制造的尖/端光刻系統(tǒng)。此外,它在微波波段的透明度為微波工程的應(yīng)用開(kāi)發(fā)開(kāi)辟了一個(gè)完整的世界。在其較純凈的形式下,多晶CVD鉆石沒(méi)有電子陷阱,使其成為高能應(yīng)用中使用的超敏感核探測(cè)器的理想材料。
通過(guò)等離子體化學(xué)氣相沉積法生長(zhǎng),II-VI公司的鉆石產(chǎn)品經(jīng)過(guò)優(yōu)化,充分利用了使鉆石成為超級(jí)材料的品質(zhì)。II-VI Incorporated將晶體生長(zhǎng)與較*的光學(xué)級(jí)加工相結(jié)合,通過(guò)整形和拋光、質(zhì)量保證和涂層,其廣泛的CVD金剛石產(chǎn)品組合包括高透明度的微波窗和靈敏度最高的金剛石核探測(cè)器。II-VI Incorporated對(duì)金剛石材料研究和開(kāi)發(fā)的強(qiáng)烈承諾使我們能夠與希望利用多晶CVD金剛石的驚人品質(zhì)的所有市場(chǎng)客戶(hù)密切合作。
透明窗和光學(xué)器件
在II-VI ,光學(xué)金剛石正在大批量生產(chǎn)。我們一直在生產(chǎn)具有優(yōu)質(zhì)光學(xué)質(zhì)量的材料(低1微米散射,低10.6微米體吸收,低632.8納米的雙折射),其截面尺寸和厚度范圍廣泛。
通過(guò)利用制造和涂層方面的核心技術(shù),II-VI ,成為極紫外光鉆石窗口的優(yōu)良品牌,這對(duì)下一代半導(dǎo)體制造的*光刻工具至關(guān)重要。
熱管理解決方案
通過(guò)調(diào)整我們的生長(zhǎng)過(guò)程,II-VI ,已經(jīng)開(kāi)發(fā)出為各種高性能熱管理應(yīng)用生成多晶CVD金剛石的能力。熱導(dǎo)率的規(guī)格范圍高達(dá)2200 W/m-K以上。利用我們優(yōu)良的制造設(shè)施,我們能夠根據(jù)客戶(hù)的規(guī)格制造出直徑大至145mm、厚度達(dá)2mm的超平和超光滑的部件,以確保與設(shè)備的優(yōu)良的熱接觸。
微波透明光學(xué)器件
II-VI 制造高質(zhì)量的鉆石光學(xué)產(chǎn)品,在微波區(qū)域是透明的。結(jié)合我們內(nèi)部對(duì)直徑大至145mm的窗口和透鏡進(jìn)行拋光和鍍膜的能力,II-VI 已經(jīng)準(zhǔn)備好滿(mǎn)足核聚變研究等領(lǐng)域?qū)ξ⒉ㄍ该鞑牧系男枨蟆?/p>
加工解決方案
II-VI 已經(jīng)開(kāi)發(fā)出一種金剛石薄膜,在加工較堅(jiān)硬的材料時(shí),擁有堪稱(chēng)典/范的硬度和磨損率。通過(guò)將我們較*的拋光和制造技術(shù)與我們內(nèi)部的激光制造設(shè)施相結(jié)合,我們能夠以有競(jìng)爭(zhēng)力的價(jià)格生產(chǎn)出優(yōu)良的產(chǎn)品。
核檢測(cè)器解決方案
使用精細(xì)調(diào)整的超高純生長(zhǎng)工藝,II-VI ,生長(zhǎng)出的多晶金剛石薄膜表現(xiàn)出優(yōu)良的電荷收集距離。對(duì)于500微米厚的成品部件,可以獲得一致的結(jié)果。
主要的CVD鉆石應(yīng)用
CVD金剛石的應(yīng)用包括多光譜激光光學(xué)、介電窗、散熱片等。
金剛石是各種應(yīng)用的終/極材料,因?yàn)樗哂谐錾男阅埽O/強(qiáng)的硬度和強(qiáng)度、高導(dǎo)熱性、低熱膨脹、出色的介電性能、抗化學(xué)侵蝕以及在寬光譜范圍內(nèi)的光學(xué)傳輸。
我們?cè)谳^*的生長(zhǎng)和制造設(shè)施中生產(chǎn)高質(zhì)量的多晶CVD金剛石基片。材料采用等離子體輔助化學(xué)氣相沉積工藝生長(zhǎng),用激光切割成所需的尺寸,并按照客戶(hù)的要求對(duì)表面進(jìn)行加工。我們還提供其他特殊的制造服務(wù),如邊緣研磨、激光雕刻以及光學(xué)組件的設(shè)計(jì)和制造。II-VI ,專(zhuān)門(mén)為金剛石基片提供*的光學(xué)涂層,包括單波長(zhǎng)或多光譜應(yīng)用的AR、HR和TFP。
II-VI 所提供的一些產(chǎn)品包括。
用于工業(yè)激光應(yīng)用的高功率CO2激光窗口(10微米范圍)。
用于工業(yè)或研究應(yīng)用的高功率多光譜激光窗口。
用于聚變和定向能應(yīng)用的高功率mm波窗口
用于極/端熱管理應(yīng)用的熱擴(kuò)散器
用于需要超硬材料的機(jī)械應(yīng)用的產(chǎn)品。
主要的CVD鉆石應(yīng)用
CO2激光窗(10.6µm)
- 高功率工業(yè)激光器
高功率微波窗
- 陀螺儀、聚變反應(yīng)堆
- 雷達(dá)、定向能應(yīng)用
熱管理
- 散熱器
生長(zhǎng)方法 | 等離子化學(xué)氣相沉積 |
物理特性
結(jié)構(gòu) | 立方,多晶 |
晶粒大小 | 取決于厚度和工藝(0.05 - 1mm) |
等級(jí) | 光學(xué)、熱、微波、探測(cè)器、機(jī)械、客戶(hù)定制 |
厚度* | 最大 2 mm |
制造能力*
尺寸 | 激光切割客戶(hù)規(guī)格,最大直徑145mm |
尺寸公差 | +/- 50µm |
拋光縱橫比 | 高達(dá) 50:1 的直徑高達(dá) 145 mm |
功率 | <0.5_fr/cm |
不規(guī)則度 | <0.5_fr/cm |
透射波前 | <0.5_fr/cm |
表面粗糙度 | <15nm |
熱性能(熱級(jí)材料)
導(dǎo)熱系數(shù) | 室溫下高達(dá) >2,200 (W/mK) |
熱膨脹系數(shù) | 1 (10-6 K-1) |
比熱 (25oC) | 0.536 (J g-1 K-1) |
光學(xué)特性(光學(xué)級(jí)材料)*
體積吸收@10.6µm <0.07(cm-1) | <0.07(cm-1) |
體積吸收@1um <1(cm-1) | <1(cm-1) |
散射@1µm <0.7(cm-1) | <0.7(cm-1) |
微波級(jí)材料
微波損耗角正切(Tan δ) | <2e-5 |
*這代表標(biāo)準(zhǔn)生產(chǎn)。 可根據(jù)要求提供產(chǎn)品數(shù)據(jù)表和規(guī)格。
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